高温气氛炉主要用于电子陶瓷、玻璃、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。
该款烧结炉采用双层炉体结构,壳体间有风冷散热系统能有效的保证外壳温度≤60℃,保温层采用多晶氧化铝陶瓷纤维炉膛,具有保温效果好、能耗低等特点。控温系统采用PID智能控温,可设置30段升降温曲线,其控温精度达到0.2级。
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公司基本资料信息
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高温气氛炉主要用于电子陶瓷、玻璃、晶体、粉末冶金、纳米材料、金属零件、电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。
该款烧结炉采用双层炉体结构,壳体间有风冷散热系统能有效的保证外壳温度≤60℃,保温层采用多晶氧化铝陶瓷纤维炉膛,具有保温效果好、能耗低等特点。控温系统采用PID智能控温,可设置30段升降温曲线,其控温精度达到0.2级。